Texas Instruments DLP Flex Cables DLP5500FLEX DLP5500FLEX 데이터 시트

DLPS013E – APRIL 2010 – REVISED SEPTEMBER 2013

420 nm to 700 nm, with all micromirrors in the

Micromirror array optical efficiency

(13) (14)

68

%

ON state

Mirror metal specular reflectivity

400 nm - 700 nm

89.4

%

Illumination Overfill

(15)

10

%

Corning Eagle 2000 or

Window material

Corning Eagle XG

Window refractive index

at 546.1 nm

1.5119

Window flatness

(16)

Per 25 mm

4

fringes

Window Artifact Size

Within the Window Aperture

(17) (18)

400

um

Window aperture

See

(17)

(13) The minimum or maximum DMD optical efficiency observed in a specific application depends on numerous application-specific design

variables, such as:
(a) Illumination wavelength, bandwidth or line-width, degree of coherence
(b) Illumination angle, plus angle tolerance
(c) Illumination and projection aperture size, and location in the system optical path
(d) IIlumination overfill of the DMD micromirror array
(e) Aberrations present in the illumination source and/or path
(f) Aberrations present in the projection path
(g) Etc.

The specified nominal DMD optical efficiency is based on the following use conditions:
(a) Visible illumination (420 nm – 700 nm)
(b) Input illumination optical axis oriented at 24° relative to the window normal
(c) Projection optical axis oriented at 0° relative to the window normal
(d) f/3.0 illumination aperture
(e) f/2.4 projection aperture

Based on these use conditions, the nominal DMD optical efficiency results from the following four components:
(a) Micromirror array fill factor: nominally 92%
(b) Micromirror array diffraction efficiency: nominally 86%
(c) Micromirror surface reflectivity: nominally 88%
(d) Window transmission: nominally 97% (single pass, through two surface transitions)

(14) Does not account for the effect of micromirror switching duty cycle, which is application dependant. Micromirror switching duty cycle

represents the percentage of time that the micromirror is actually reflecting light from the optical illumination path to the optical projection
path. This duty cycle depends on the illumination aperture size, the projection aperture size, and the micromirror array update rate.

(15) The active area of the DLP3000 is surrounded by an aperture on the inside of the DMD window surface that masks structures of the

DMD device assembly from normal view. The aperture is sized to anticipate several optical conditions. Overfill light illumination the area
outside the active array can create artifacts from the mechanical features that surround the active array and other surface anomalies
that may be visible on the projected image. The illumination optical system should be designed to limit light flux incident anywhere
outside the active array less than 10% of the average flux level in the active area. Depending on the particular system's optical
architecture and assembly tolerances, the amount of overfill light on the outside of the active array may cause visible artifacts.

(16) At a wavelength of 632.8 nm.
(17) Refer to the

section at the end of this document for details regarding the size and location of the

window aperture.

(18) Refers only to non-cleanable artifacts. Refer to DMD S4xx Glass Cleaning Procedure (TI Literature number

and DMD S4xx

Handling Specifications (TI Literature number

for recommend handling and cleaning processes.

18

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